เตาสำหรับการประยุกต์ใช้เคลือบสูงสารต้านอนุมูลอิสระ

การแต่งตั้ง

 
เตาสำหรับการใช้เคลือบประกอบด้วยสารต้านอนุมูลอิสระและการระเหยห้องทับถม วัสดุฐาน (กราไฟท์หรือคาร์บอน / คาร์บอน) ที่วางอยู่ในห้องสะสมและห้องก่อนการระเหยวางโซเดียมคลอไรด์, ZrCl4 ฯลฯ อบอุ่นและระเหยอุณหภูมิสูงผ่านเข้าสู่ท่อหอการค้าสารประกอบของพยานถูกนำไปใช้วัสดุพื้นฐานจะได้รับการเคลือบสารต้านอนุมูลอิสระ

คุณสมบัติทางเทคนิค

 
1. เตาเผาเคลือบสูญญากาศมีห้องชั้นบนและล่างที่อุณหภูมิสะสมจะถูกควบคุมแยกกันและมีอุณหภูมิการระเหย
ความเร็ว 2.Kontroliruet และการเคลือบโดยการควบคุมอุณหภูมิในห้องระเหยที่ หรือเพิ่มขึ้นในก่อนให้อาหารห้องติดตั้งระเหยเพื่อควบคุมความเร็วและเวลาของการสะสม
3. ใช้เทคโนโลยีพิเศษของพันธะอุณหภูมิสูงหลังจากการระเหยก่อน มันไม่ได้รวมตัวในท่อและการอุดตัน
4. เตาเป็นอุปกรณ์ที่มีการเคลือบสารต้านอนุมูลอิสระสารเคลือบพิเศษเตาเผาที่ปิดสนิทเพื่อลดการปนเปื้อนโดยผลิตภัณฑ์สำหรับองค์ประกอบของความร้อนและฉนวนวัสดุ
ติดตั้งพิเศษ 5.Osnaschena ของการกำจัดสาขาของก๊าซในเตา ความปลอดภัยด้านสิ่งแวดล้อมของการประมวลผลก๊าซ

อุปกรณ์ส่วนบุคคล

 
1.Dveri เตาอบ: บานพับประตู / กรอบบนล้อล็อคคู่มือ / ประทับตราแหวนอัตโนมัติ
เตา 2.Korpus: เหล็กกล้าคาร์บอน / สแตนเลสอย่างเต็มรูปแบบภายใน / สแตนเลสแบบเต็มรูปแบบ
เตา 3.Kamera สำหรับเคลือบสูญญากาศ: คาร์บอนนุ่มรู้สึก / กราไฟท์รู้สึกนุ่ม / คอมโพสิตยากรู้สึกที่ / สาร CFC
4.Nagrevatel, อุด: Hip กดไฟท์ / กราไฟท์อัดความบริสุทธิ์สูงความแข็งแรงสูงและความหนาแน่นสูง / ขนาดเล็กกราไฟท์ / คาร์บอนวัสดุคอมโพสิต
ปั๊มสูญญากาศและ 5.Vakuumny: นำเข้า / แบรนด์จีน
6.PLC: OMRON / SIEMENS
7.Kontroller อุณหภูมิ: SHIMADEN / EUROTHERM
8.Termopara: ประเภท C / S ประเภท / ชนิด K / พิมพ์ n
เตาอบ 9.Registrator สำหรับการใช้เคลือบสารต้านอนุมูลอิสระ: ไร้กระดาษ / กระดาษ; นำเข้า / แบรนด์จีน
10.Pirometr: สองสี / ขาวดำ CHINO / Raytek
11.HMI (Interface): อะนาล็อกหน้าจอ / จอสัมผัส / คอมพิวเตอร์อุตสาหกรรม
องค์ประกอบ 12.Elektricheskie: CHINT / SCHNEIDER / SIEMENS
13.Telezhka: ลูกกลิ้งรถตักดิน / ยก

พารามิเตอร์แบบสำหรับเตาอบและเคลือบสูญญากาศ

 

รูปแบบและตัวเลือก	AOC-0304	AOC-0406	AOC-0810	AOC-1012
การสะสมขนาดห้อง D × H (mm)	Φ300× 400	Φ400× 600	Φ800× 1000	Φ1000× 1200
แม็กซ์ อุณหภูมิในห้องสะสม (℃)	1800	1800	1800	1800
แม็กซ์ อุณหภูมิในห้องระเหย (℃)	1000	1000	1000	1000
ความสม่ำเสมอของอุณหภูมิ (℃)	± 3	± 5	± 7.5	± 7.5
พลังงานความร้อนในห้องทับถม (กิโลวัตต์)	60	100	250	450
สูญญากาศที่ดีที่สุดในเตาอบเย็น (PA)	10Pa / 5 × 10-3Pa	10Pa / 5 × 10-3Pa	10Pa / 5 × 10-3Pa	10Pa / 5 × 10-3Pa
อัตราการเพิ่มขึ้นของความดัน (PA / เอช)	0.5	0.5	0.5	0.5
ข้อกำหนดดังกล่าวข้างต้นอาจมีการเปลี่ยนแปลงตามความต้องการเทคโนโลยีของลูกค้าที่พวกเขาไม่ได้มาตรฐานสำหรับการรับรายละเอียดราย​​ละเอียดจะได้รับการยืนยันในข้อเสนอด้านเทคนิคหรือสัญญา