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deposição de vapor químico forno horizontal (CVD / HGO para a deposição de SiC)

deposição de vapor químico forno horizontal (CVD / HGO para a deposição de SiC)

nomeação

 
deposição de vapor químico forno horizontal (deposição carborundo) destina-se a emergência korrozieustoychivyeh revestimentos na superfície de materiais de carbono, ou melhorar as suas propriedades trihlormonosilanom substrato (MTS) como uma fonte de gás.

características técnicas do forno horizontal de doença cardiovascular

 
1. Com a utilização da tecnologia de controle mais avançada. Você pode controlar precisamente o fluxo e pressão do MTS. pressão de deposição de alimentação é estável e varia dentro de uma faixa estreita.
2.Imeetsya câmara de deposição especial com alta integridade e proteção contra a contaminação.
3. Utilize canais múltiplos de gás de deposição sem zonas mortas, com boa precipitação efeito.
4. O forno de deposição química em fase vapor horizontal tem uma função de remoção de gases de combustão corrosivos, gases combustíveis e explosivos, poeiras e materiais pegajosos sólidos de baixo ponto de fusão durante o processo de deposição.
5. Com usando o mais recente projeto de bombas de vácuo resistentes à corrosão, aumentando a sua capacidade de sobrevivência e reduzindo o tempo de manutenção.

A configuração do forno horizontal para doença cardiovascular

 
1. As portas do forno: Porta articulada / frame sobre rodas, fecho manual / anel de vedação automática.
2. O corpo do forno: todo o aço aço de carbono / aço inoxidável aço inoxidável interior / full
3. A câmara de forno: carbono feltro / feltro de grafite macio composta / hard senti / o CFC
4. A mufla de aquecimento: / grafite de pequeno porte grafite / grafite extrudados de alta pureza, alta resistência e alta densidade de pressão-HIP
sistema 5.Pnevmaticheskaya: contador volumétrico fluxo / medidor de fluxo de massa, / válvula automática manual importada marca / Chinês
6. A bomba de vácuo e de vácuo: Imported / marca chinesa
7. PLC: Omron / SIEMENS
8. Controlador horizontal forno de vapor químico temperatura de deposição: SHIMADEN / EUROTHERM
9. Termopar: C Tipo Tipo / S / tipo K / Tipo N
10.Registrator: sem papel / papel; importação / marca chinesa
11.HMI (interface): tela / ecrã touch / computador industrial analógica
elementos 12.Elektricheskie: CHINT / SCHNEIDER / Siemens
13.Telezhka: rolo carregador / empilhadeira / dobrável


Modelos e parâmetros de forno horizontal para DCV

 

Opções ModelsEquipa HCVD -060609-CEquipa HCVD -080812-CEquipa HCVD -101015-CEquipa HCVD -121225-CEquipa HCVD -151530-CEquipa HCVD -252035-CEquipa HCVD -252550-C
O tamanho da área de trabalho W × H × D (mm)600 × 600 × 900800 × 800 × 12001000 × 1000 × 15001200 × 2500 × 2001500 × 1500 × 30002500 × 2000 × 35002500 × 2500 × 5000
Carga (kg)3008001500250050001000020000
Max. Temperatura (℃)1500150015001500150015001500
uniformidade de temperatura (℃)± 7,5± 7,5± 7,5± 10± 10± 15± 15
Potência de aquecimento (kW)21036048060090012001800
vácuo máximo (Pa)20202020202020
A taxa de aumento de pressão (Pa / h)0,670,670,670,670,670,670,67
As especificações acima estão sujeitas a alterações de acordo com as exigências tecnológicas do cliente, eles não são as normas para a recepção, especificações detalhadas serão confirmados na proposta técnica ou contrato.
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