縦型炉化学蒸着（CVD / HGO SiCの堆積のため）

任命

 
垂直管状炉は、炉CVD化学蒸着（蒸着カーボランダム）は、炭素材料の表面に耐腐食性コーティングの出現を対象とし、またはガス源としてのそれらの特性trihlormonosilanom基質法（MTS）を改善します。

CVD用縦型炉の技術的特徴

 
最先端の技術を使用して、1.C制御は、それが正確に流量および圧力trihlormonosilana（MTS）を制御することが可能であり、堆積フラックスは安定であり、圧力は、狭い範囲で変化します。
汚染に対する高い整合性と保護機能を備えた特殊な堆積チャンバを2.Imeet。
良い効果の降水量とのデッドゾーン、なし3.複数の成膜ガス流路。
4.垂直管状炉は、堆積プロセスの間にCVD腐食性煙道ガス、可燃性、爆発性ガス、粉塵及び低融点の固体粘着性の物質を除去する機能を有しています。
5.With noveyschey、真空ポンプの耐腐食性設計を使用して生存率を増加させ、メンテナンス時間を短縮します。

パーソナルアクセサリー

 
1.オーブンドア：スパイラルリフト/油圧リフト/マニュアル持ち上げ、手動ロック/自動ゲートリング
2.炉の本体：すべての炭素鋼/ステンレス鋼インテリア/フルステンレス鋼
心血管疾患の3カメラの縦型炉：マイルドカーボンフェルト/グラファイトは、ハード/ソフトコンポジットは/ CFCフェルト
4.ヒーターマッフルを：HIPプレス黒鉛/黒鉛を高純度、高強度、高密度押出し/小型グラファイト
5.Pnevmaticheskayaシステム：体積流量計/質量流量計、手動/自動弁、インポート/中国ブランド
6.真空ポンプと真空：インポート/中国ブランド
7. PLC：オムロン/ SIEMENS
シマデン/ EUROTHERM：8温度コントローラは、縦型管状炉CVD法であります
9.熱電対：Cタイプ/ Sタイプ/ Kタイプ/ Nタイプ
10.Registrator：ペーパーレス/紙;インポート/中国ブランド
11. HMI（インタフェース）：アナログ画面/タッチスクリーン/産業用コンピュータ
12.電気部品：CHINT / SCHNEIDER / SIEMENS

モデルやCVD用縦型炉のパラメータ

 

オプションモデル	VCVD-0305-SIC	VCVD-0508- SIC	VCVD-0812- SIC	VCVD-1015- SIC	VCVD-1218- SIC	VCVD-1520- SIC
H×作業領域サイズD（ミリメートル）	500×Φ300	800×Φ500	1200×Φ800	1500×Φ1000	1800×Φ1200	2000×Φ1500
負荷量（kg）	50	150	500	1000年	2000	3000
マックス。温度（℃）	1500	1500	1500	1500	1500	1500
温度均一性（℃）	±5	±5	7.5±	7.5±	±10	±10
暖房出力（kW）	45	90	180	300	420	540
到達真空度（Pa）で	20	20	20	20	20	20
圧力の上昇率（PA / H）	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67
上記のデータは、彼らが受信のために規定するものではありません、顧客の技術的要件に応じて変更される場合があり、詳細な仕様は、技術提案書や契約書で確認されます。